MEB + EBL – PIONEER de Raith

Le PIONEER est un système de lithographie à faisceau d’électrons (EBL) intégré à un microscope électronique à balayage (MEB), permettant ainsi aux utilisateurs d’analyser la composition structurale de leurs nanostructures. Cet appareil est doté d’une table de translation d’interféromètre au laser, ainsi que deux détecteurs d’électrons : direct et diffusion. Sa tension d’accélération maximale est de 30 kV. La priorité est donnée à son utilisation pour la lithographie.

MEB

• Classification : 5/10 (1 = facile, 10 = très difficile)
• Temps de formation requis : 5 à 15 heures
• Conditions préalables :
  • Expérience pratique en laboratoire
  • GeminiSEM 500
  • Bonne coordination œil-main
  • Connaissance générale de l’interaction entre un faisceau focalisé d’électrons et les matériaux

EBL

• Classification : 8/10 (1 = facile, 10 = très difficile)
• Temps de formation requis : Au moins 20 heures
• Conditions préalables :
  • GeminiSEM 500
  • Tournette de traitement
  • Plans en CAO
  • Coordination de systèmes de transformation
  • Physique des faisceaux d’électrons (effets de proximité, optique électronique, etc.)
  • Polymères organiques

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